据“南海丹灶”公众号消息，3月18日，总投资35亿元的深圳清溢光电股份有限公司“平板显示及半导体用掩膜版”生产基地（佛山南海）建设项目开工仪式在南海丹灶举行。

据悉，项目总投资35亿元，将建设平板显示配套掩膜版生产线、半导体IC配套掩膜版生产线，实现250—28nm光掩膜版量产，满足8寸和12寸晶圆厂掩膜版需求。佛山市副市长文曦表示，清溢光电的落地将有助于推动佛山市新型显示及半导体产业集聚化、链条化发展，打造新型显示及半导体产业高质量发展的新增长点和新亮点。

据了解，在半导体芯片掩膜版领域，清溢光电已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产，已实现150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证，正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划，主要工艺技术已处于国内同行业领先水平。

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